論文 - 内藤 宗幸
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“Structural characterization of metastable iron silicides formed in the Fe ion implanted Si”（共著）
M. Naito and M. Ishimaru
Proceedings of the 9th Asia-Paciffic Microscopy Conference (Jeju, Korea, 2008) in press. 2008年11月
共著
担当区分：筆頭著者
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“Formation process of β-FeSi2 from amorphous Fe-Si synthesized by ion implantation: Fe concentration dependence”（共著）
M. Naito and M. Ishimaru
Journal of Microscopy, accepted for publication. 2008年11月
共著
担当区分：筆頭著者
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“Early stage of the crystallization in amorphous Fe-Si layers: Formation and growth of metastable α-FeSi2”（共著）
M. Naito, M. Ishimaru
Nucl. Instrum. Meth. B, accepted for publication. 2008年11月
共著
担当区分：筆頭著者
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“Transmission electron microscopy study of an electron-beam-induced phase transformation of niobium nitride”（共著）
J. Won, J. A. Valdez, M. Naito, M. Ishimaru, K. E. Sickafus.
Scripta Materialia, accepted for publication. 2008年11月
共著
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“Direct observations of thermally induced structural changes in amorphous Silicon carbide”（共著）
M. Ishimaru, A. Hirata, M. Naito, In-Tae Bae, Y. Zhang, and W. J. Weber
J. Appl. Phys. 104 (2008) 033503(1)-033503(5) 2008年11月
共著
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“Low temperature thermal annealing-induced α-FeSi2 derived phase in an amorphous Si matrix”（共著）
M. Naito, M. Ishimaru, Y. Hirotsu, J. A. Valdez, and K. E. Sickafus
Applied Physics A, 91(2008) 353-356. 353 - 356 2008年11月
共著
担当区分：筆頭著者
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“Formation processes of iron silicide nanoparticles studied by ex situ and in situ transmission electron microscopy”（共著）
Jonghan Won, András Kovács, Muneyuki Naito, Manabu Ishimaru, and Yoshihiko Hirotsu
J. Appl. Phys. 102 (2007) 103512(1)-103512(7). 2007年11月
共著
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“Post-annealing recrystallization and damage recovery process in Fe ion implanted Si”（共著）
M. Naito, A. Hirata, M. Ishimaru and Y. Hirotsu
Nucl. Instrum. Meth. B 257 (2007) 340-343 2007年11月
共著
担当区分：筆頭著者
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“Amorphous structure of ion-beam-synthesized Fe-Si thin layer”（共著）
M. Naito, M. Ishimaru, Y. Hirotsu
Proceedings of the 16th International Congress on Electron Microscopy 1771 - 1772 2006年11月
共著
担当区分：筆頭著者
(Sapporo, Japan, 2006) p.1771-1772.
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“Formation process of β-FeSi2/Si heterostructure in high-dose Fe ion implanted Si”（共著）
M. Ishimaru, K. Omae, I.-T. Bae, M. Naito, Y. Hirotsu, J. A. Valdez and K. E. Sickafus
J. Appl. Phys. 99 (2006) 113527(1)- 113527(7). 2006年11月
共著
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“Solid phase crystallization of amorphous Fe-Si layers synthesized by ion implantation”（共著）
M. Naito, M. Ishimaru, Y. Hirotsu, J. A. Valdez and K. E. Sickafus
Appl. Phys. Lett. 88 (2006) 251904(1)- 251904(3). 2006年11月
共著
担当区分：筆頭著者
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“Structural investigation of Ge-Sb-Sn thin film using transmission electron microscopy”（共著）
M. Naito, M. Ishimaru, Y. Hirotsu, M. Takashima and H. Matsumoto
J. Materials Science 41 2615 - 2619 2006年11月
共著
担当区分：筆頭著者
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“Structural characterization of amorphous Fe-Si and its recrystallized layers”（共著）
M. Naito, M. Ishimaru, Y. Hirotsu, J. A. Valdez and K. E. Sickafus
Nucl. Instrum. Meth. B 250 283 - 286 2006年11月
共著
担当区分：筆頭著者
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“Structural evolution in Fe ion implanted Si upon thermal annealing”（共著）
K. Omae, I.-T. Bae, M. Naito, M. Ishimaru, Y. Hirotsu, J. A. Valdez and K. E. Sickafus
Nucl. Instrum. Meth. B 250 300 - 302 2006年11月
共著
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“Low-temperature crystallization caused by ultrasound in Pd42.5 Ni7.5 Cu30 P20 and Pd40 Ni40 P20 bulk metallic glasses”（共著）
T. Ichitsubo, E. Matsubara, K. Anazawa, N. Nishiyama, M. Naito and Y. Hirotsu
Mater. Sci. Eng. A, 442 273 - 277 2006年11月
共著
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“Identification of soft phonon modes in Ge-Sb-Te using electron diffraction”（共著）
M. Naito, M. Ishimaru, Y. Hirotsu and M. Takashima
J. Appl. Phys. 98 (2005) 034506(1)-034506(4). 2005年11月
共著
担当区分：筆頭著者
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“Transmission electron microscopy study on ion-beam-synthesized amorphous Fe-Si thin layers”（共著）
M. Naito, M. Ishimaru, Y. Hirotsu, J. A. Valdez and K. E. Sickafus
Appl. Phys. Lett. 87 (2005) 241905(1)- 241905(3). 2005年11月
共著
担当区分：筆頭著者
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“Local structural change of amorphous Ge-Sb-Te thin film on annealing”（共著）
M. Naito, M. Ishimaru, Y. Hirotsu and M. Takashima
J. Non-Cryst. Solids 345&346 112 - 115 2004年11月
共著
担当区分：筆頭著者
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“Structure analysis of as-sputtered and melt-quenched Ge-Sb-Te thin film”（共著）
M. Naito, M. Ishimaru, Y. Hirotsu and M. Takashima
Proceedings of the 8th Asia-Paciffic Conference on Electron Microscopy 608 - 609 2004年11月
共著
担当区分：筆頭著者
(Kanazawa, Japan, 2004) p.608-609.
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“Local structure analysis of Ge-Sb-Te phase change materials using high-resolution electron microscopy and nanobeam diffraction”（共著）
M. Naito, M. Ishimaru, Y. Hirotsu and M. Takashima
J. Appl. Phys. 95 (2004) 8130-8135. 2004年11月
共著
担当区分：筆頭著者